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三氟化氮，化学式ＮＦ3，常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用三氟化氮是低毒性物质，但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜，腐蚀组织吸入高浓度ＮＦ３可引起头痛、呕吐和腹泻长期吸入低浓度ＮＦ３能损伤牙齿和骨骼，使牙齿生黄斑，骨骼成畸形与还原剂能发生强烈反应，引起燃烧爆炸